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Fourniture d’un équipement de dépôt de couche minces par couche atomique de type «ALD» (Atomic Layer Deposition)

Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition). Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.

CPV-Code:

31712000

Abgabefrist:

Typ:

Contract award notice

Status:

Not applicable

Aufgabe:

Other

Vergabestelle:

name:	CEA Grenoble
address:	17 rue des Martyrs
postal_code:	38054
city:	Grenoble Cedex 9 - FR
country:	FR
email:	None
phone:	+33 438789943
contact_point:	Mme Claire Moreau-Flachat
idate:	2. Juli 2020 13:23
udate:	2. Juli 2020 13:23
doc:	016562_2020.xml
authority_types:
activities:

Quelle:

http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:016562-2020:TEXT:FR:HTML

Unterlagen:

None

Zuschlagskriterium:

The most economic tender

Vertrag:

Supplies

Prozedur:

Open procedure

Nuts:

None

Veröffentlichung:

14.01.2020

Erfüllungsort:

Grenoble - FR

Link:

Lose:

Name	Los Nr 1 None
Gewinner	Microtest
Datum
Wert	1,00 €
Anzahl Angebote	2

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