Ausschreibungen

L'EPFL a l'intention d'acquérir un système d'écriture de structures à haut débit pour son Centre de Micro et Nano Technologie (CMi) de la faculté des sciences et techniques de l'ingénieur (STI). Cet équipement sera dédié à la recherche de pointe dans les domaines de la micro et nano-fabrication. Le CMi est une plateforme technologique de salles blanches pour l'ensemble des facultés de l'EPFL ainsi que pour les industriels locaux. Nous avons plus de 160 nouveaux utilisateurs par année et approximativement 400 utilisateurs actifs. Par conséquent, une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des structures générées mais également à la flexibilité de l'équipement, à sa facilité d'utilisation et d'administration, à sa robustesse, à sa simplicité et rapidité d'apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à la vitesse de chargement des échantillons. Aux vues des besoins de l'EPFL et des buts de la plateforme technologique CMi, une attention particulière sera placée sur les capacités d'écriture rapide sur wafers et plaques de verre à partir de fichier de données standard. Les exigences générales sont les suivantes:(i) Générateur optique de structures avec une grande capacité de :-Produire plus de 1000 masques par an. — d'adapter la vitesse d'écriture en fonction de la taille minimale des structures ciblées, — charger automatiquement des plaques ou substrats pour le traitement par lot, — faciliter l'accès aux utilisateurs novices grâce à une interface d'entrée incluant une prévisualisation avec des avertissements en cas de surcapacité de taille des structures. (ii) Générateur optique pour le prototypage rapide-Chargement et déchargement simple, manuel et rapide d'échantillons de taille et forme flexibles. — chargement automatique avec pré-alignement des plaques et wafers standardisés (wafer ISO 100mm), — interface graphique pour expositions avec alignement assisté par ordinateur et la métrologie. (iii) Facilité d'utilisation pour l'administration des utilisateurs et la gestion des recettes-Niveaux d'autorisation d'accès distincts pour l'opérateur novice, l'ingénieur ordinaire et le responsable des tâches administratives. — configuration de lots d'écriture pour l'utilisation à distance différée dans le temps avec accès au statu de l'équipement, — gestion facilité de l'espace disque, y compris le nettoyage des anciennes données. Les fournisseurs peuvent obtenir des informations générales sur les laboratoires concernés à l'adresse internet http://cmi.epfl.ch/

Optical Pattern Generator.

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