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Fourniture d'un système de dépôt chimique de couches atomiques assisté par plasma (ALD).

Le matériel est un réacteur de dépôt de couches atomiques (ALD) dédié au dépôt de matériaux isolants et conducteurs avec une haute conformité pour les applications optoélectroniques et microélectroniques à base de matériaux inorganiques de la famille du GaN et de matériaux organiques déposés sur substrats polymères.

CPV-Code:

42900000

Abgabefrist:

Typ:

Contract award

Status:

Not applicable

Aufgabe:

Other

Vergabestelle:

name:	Association de préfiguration institut Lafayette
address:	2 rue Marconi
postal_code:	57070
city:	Metz - FR
country:	FR
email:	None
phone:	+14043855163
contact_point:
idate:	27. Juni 2020 17:10
udate:	27. Juni 2020 17:10
doc:	161432_2014.xml
authority_types:
activities:

Quelle:

http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:161432-2014:TEXT:FR:HTML

Unterlagen:

None

Zuschlagskriterium:

Not specified

Vertrag:

Supply contract

Prozedur:

Open procedure

Nuts:

None

Veröffentlichung:

14.05.2014

Erfüllungsort:

Metz - FR

Link:

Lose:

Name	Los Nr 1 None
Gewinner	Annealsys SAS
Datum
Wert	491 821,68 €
Anzahl Angebote	1

Fourniture d'un système de dépôt chimique de couches atomiques assisté par plasma (ALD).

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