Ausschreibungen

Die an das zu beschaffende Rasterelektronenmikroskop (REM) gestellten Anforderungen ergeben sich aus dem zu bearbeiteten Aufgabenspektrum. Dies sind vor allem Abbildung von Oberflächen, Ermittlung der chemischen Zusammensetzung sowie einfache Elektronenstrahllithographie. Dabei bestehen besondere Anforderungen an die Leistungsfähigkeit des Gerätes insbesondere hinsichtlich des Auflösungsvermögens sowie bei der Untersuchung nichtleitender Proben. — Auflösung im standard mode < 1.0 nm bei 15 kV, < 1.5 nm bei 500 V; — Auflösung im low vacuum mode (ca 30 Pa) < 2.0 nm bei 3 kV; — Möglichkeit isolierende Proben (z. B nicht geschlossene organische Schichten auf hochisolierenden Substraten, strukturierte Schichten auf Al2O3 Substraten) auch ohne Metallisierung bei höchster Auflösung zu untersuchen. Dies erfordert: — Low Vakuum Mode (5 bis 500 Pa); — Arbeiten bei kleinsten Landeenergien und kleinsten Probenströmen; — Magnetfeldfreier Probenraum, d. h. keine magnetische Immersionslinse. Diese Forderung ist notwendig, um die uneingeschränkte Untersuchung ferromagnetischer Materialien ermöglichen; — Hochspannung < 100V-30kV; — motorisierte euzentrische Probenbühne Verfahrwege: x,y ≥ 50 mm, z ≥ 40 mm, Kippwinkel ≥ 70°, Rotation ≥ 360°; — verschiedene Detektionsmöglichkeiten; — hocheffizienter Kammer-SE-Detektor (Evenhart-Thornley); — rückziehbarer Mehrsektoren-BSE-Detektor der Material-, Orientierungs-und Topographiekontrast ermöglicht; — unabhängige In-Lens Detektoren für SE und BSE; — hocheffizienter SE-Detektor für Low Vakuum Mode; — paralleler Bildeinzug mit den verschiedenen Detektoren; — Nach Möglichkeit Ausstattung mit einem rückziehbaren Multi-Segment-STEM-Detektor für die hochauflösende Abbildung organischer Materialien bei kleinen Beschleunigungsspannungen; — EDX-System mit der Möglichkeit auch leichte Elemente (C, N, O, F) in einer Probe quantitativ zu analysieren; — Auflösung ≤ 123 eV bei Mn Kα; — Detektorfläche ≥ 30mm2; — Möglichkeit zum Mapping einschließlich offline-Auswertung; — Nachweis geometrisch sehr kleiner (nur in einem einzelnen Pixel des Maps vorhandener) Einschlüsse/Phasen; — Driftkorrektur während der Aufnahme eines Maps; — Einfacher Zusatz für Elektronenstrahllithographie, Stitching nicht erforderlich, datenkompatibel zu Proxywriter der Firma Raith; — Kühlung gegen technisches Kühlwasser, nicht gegen Raumluft (Entlastung der Klimaanlage).

Beschaffung eines Rasterelektronenmikroskops (DFG-GZ: A 706).

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