Ausschreibungen

Für ihr Labor „Nanoelectronic devices“ und ihr Zentrum für Mikro-und Nanotechnologie, beabsichtigt die Eidgenössische Technische Hochschule in Lausanne (EPFL) eine industriefähige Beschichtungsanlage anzuschaffen die nach dem Prinzip der Laserstrahlverdampfung funktioniert (PLD-Anlage). Die Anlage soll Substratgrößen von bis zu 200 mm Durchmesser beschichten können. Die Anlage dient der Spitzenforschung in dünnen Oxydschichten mit spezifischen dielektrischen, elektromechanischen, elektrochemischen, optischen, Transport-, und Halbleiter-Eigenschaften. Um den Anforderungen der EPFL und den spezifischen Zielen ihrer Laboratorien in Dünnschichtelektronik, nanoelektronischen Schaltungen, und Mikrosystemen gerecht zu werden, werden hauptsächlich folgende Forschungsgebiete verfolgt: — Reine und dotierte dünne Schichten von VO2 für funktionelle Mikroelektronik, — Reine und dotierte dünne Schichten von HfO2 für nicht-flüchtige Speicherelemente, — Dünne Schichten aus Perowskit-Verbindungen für Anwendungen in Mikrosystemen, einschließlich der Materialien PZT, und LaNiO3 als leitendes Oxyd. — Beschichtungen mit transparent-leitenden (TCO) oder halbleitenden Materialen für Anwendungen in Photovoltaik (Solarzellen), Photodioden, Lichtemittierende Dioden, und Transistoren, typischerweise: ZnO, IZO, ITO, etc. Wichtig in diesem Zusammenhang ist eine Beschichtung die Substratoberfläche nicht beschädigt.

Équipement de déposition par ablation laser pulsé pour le dépôt de couches minces.

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