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Équipement de photolithographie laser 3D de haute résolution.

Die EPFL beabsichtigt, ein hochauflösendes 3D-Laserlithographiesystem basierend auf dem Zwei-Photonen-Absorptions-Phänomens zu erwerben. Ein (femtosekunden-)gepulster Infrarot-Laser mit hoher Spitzenleistung wird auf einen beschichteten Wafer fokussiert, wodurch Zwei-Photonen-Polymerisation der lichtempfindlichen Polymeren (Negativton-Lichtempfindlichkeit) induziert wird. Die Anlage ist auch mit der Belichtung von positiven Novolac / Diazonaphthochinon-Photoresisten kompatibel. Im Hinblick auf die Bedürfnisse der EPFL werden die Schwerpunkte auf Herstellung von: —weichen und biokompatiblen Mikroaktuatoren für minimal-invasive klinische Operationen; —massgeschneiderten AFM Spitzen mit hohen Seitenverhältnissen; —hohlen mechanischen Strukturen für Steifheitsmessung von Zellen; —photonischen Leiterverbindungen, die in Nano-Opto-Elektromechanischen Systemen verwendet werden; —Mikro- und Nanotelektroden aus glasartigen Kohlenstoff; —mikrooptischen Elementen.
CPV-Code: 38000000
Abgabefrist: 18.07.2017
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne Vice-présidence pour la recherche VPR DAR ECO
address: BI A2 453 (Bâtiment BI) Station 7
postal_code: 1015
city: Lausanne - CH
country: CH
email: None
phone: None
contact_point: Jérôme Butty
idate: 13. Juni 2020 11:16
udate: 13. Juni 2020 11:16
doc: 224679_2017.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:224679-2017:TEXT:DE:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: CH0
Veröffentlichung: 13.06.2017
Erfüllungsort: Lausanne - CH
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 Switzerland__Lausanne__
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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