Updates zu ähnlichen Ausschreibungen erhalten

Elektronenstrahl-Lithographieanlage

Im Rahmen der Beschaffung soll eine hochgradig automatisierbare und hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographieanlage (ebeam) ausgewählt werden. Mit dieser Anlage soll in elektronenstrahlempfindlichen Lacken auf Halbleitersubstraten (Wafer) und Quarzmasken mit sehr hoher Präzision und Genauigkeit Strukturen mit einem Auflösungsvermögen von bis zu wenigen Nanometern (nm) generiert werden.
CPV-Code: 34999300
Abgabefrist: 12.07.2018
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
address: Hansastr. 27c
postal_code: 80686
city: München - DE
country: DE
email: None
phone: None
contact_point:
idate: 17. Juni 2020 15:10
udate: 17. Juni 2020 15:10
doc: 254479_2018.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:254479-2018:TEXT:DE:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Competitive procedure with negotiation
Nuts: None
Veröffentlichung: 14.06.2018
Erfüllungsort: München - DE
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 Germany__München__
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

Informiere dich täglich über neue
Ausschreibungen zum Thema Electroplating machines

×

Geben Sie Ihre E-Mail Adresse an, um ein tägliches Update zu neusten Ausschreibungen zum Thema Electroplating machines zu erhalten.

Indem Sie fortfahren, stimmen Sie unseren Datenschutz Richtlinien zu und nehmen zur Kenntnis, wie wir Ihre personenbezogenen Daten bearbeiten und Cookies einstellen