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PVD Anlage zum Aufdampfen dielektrischer und metallischer Schichten

Das Fraunhofer ISIT plant im Rahmen des Projektes „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ (FMD) des BMBF für den MEMS Reinraum die Beschaffung einer neuen PVD Anlage für das Aufdampfen von Dünnschichtstapel aus Germanium und Zinkselenid mit Schichtdicken im Bereich von jeweils 1-2 μm. Daneben soll die Anlage auch für das Aufdampfen metallischer Schichtstapel aus Gold und Zinn für das Präzisionslöten optischer Komponenten genutzt werden
CPV-Code: 42163000
Abgabefrist: 23.07.2018
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
address: Hansastr. 27c
postal_code: 80686
city: München - DE
country: DE
email: None
phone: None
contact_point:
idate: 27. Juni 2020 19:38
udate: 27. Juni 2020 19:38
doc: 270386_2018.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:270386-2018:TEXT:DE:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Competitive procedure with negotiation
Nuts: None
Veröffentlichung: 23.06.2018
Erfüllungsort: München - DE
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 Germany__München__
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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