LPCVD – Prozessanlage

Der Auftrag umfasst die Lieferung und Installation eines Niederdruck-Hochtemperatur-Ofens zur chemischen Gasphasenabscheidung (LPCVD-Ofen). Der LPCVD-Ofen soll Abscheidung- und Temperprozesse unter verschiedenen Atmosphären durchführen können. Der Ofen wird für die thermische Abscheidung und das Tempern/die thermische Behandlung von dünnen Schichten mikro-/nanoelektronischer Bauelemente verwendet. Er muss mit den CMOS-Normen kompatibel und in der Lage sein, Wafer mit einem Mindestdurchmesser von 150 mm unter Atmosphären- und Vakuumbedingungen zu prozessieren. Die Anlage wird sich in einem Reinraum der ISO-Klasse 6 (DIN EN ISO 14644-1) befinden.
CPV-Code: 42942200
Abgabefrist:
Typ: Contract award notice
Status: Not applicable
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: NaMLab gGmbH
address: Nöthnitzer Straße 64 a
postal_code: 01187
city: Dresden - DE
country: DE
email: None
phone: +49 351212499010
contact_point:
idate: 1. Juli 2020 02:56
udate: 1. Juli 2020 02:56
doc: 278963_2020.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:278963-2020:TEXT:DE:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: None
Veröffentlichung: 16.06.2020
Erfüllungsort: Dresden - DE
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 None
Gewinner ATV Technologies GmbH
Datum
Wert 303 300,00 €
Anzahl Angebote 1