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Équipement de Reactive Ion Etching Inductively Coupled Plasma (RIE-ICP).

Die Eidgenössisch Technische Hochschule Lausanne (EPFL) beabsichtigt für den Reinraum des Instituts für Festkörperphysik (IPHYS) zu erwerben, ein Reactive Ion Etching Inductively Coupled Plasma System (RIE-ICP) anzuschaffen. Die Anlage wird für modernste Forschung auf dem Gebiet der III-Nitrid Halbleiter (GaN, AlN, InN und zugehörige Verbindungshalbleiter) und III-V Halbleiter (GaAs, InP und zugehörige Verbindungshalbleiter) eingesetzt. Die Anforderungen der EPFL und die speziellen wissenschaftlichen Zielen des Instituts IPHYS werden auf folgenden Forschungsgebieten liegen: — UV und nah-infrarot emittierende Bauelemente (LED und Laser); — Photonische Kristalle, VCSEL Arrays; — Quanten Punkt Laser; — Optische und elektrische Nanostrukturen.

CPV-Code:

38000000

Abgabefrist:

11.10.2016

Typ:

Contract notice

Status:

Submission for all lots

Aufgabe:

Not specified

Vergabestelle:

name:	Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne Vice-présidence pour les affaires académiques
address:	BI A2 453 (Bâtiment BI) Station 7
postal_code:	1015
city:	Lausanne - CH
country:	CH
email:	None
phone:	None
contact_point:
idate:	1. Juli 2020 11:44
udate:	1. Juli 2020 11:44
doc:	308631_2016.xml
authority_types:	BODY_PUBLIC
activities:

Quelle:

http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:308631-2016:TEXT:DE:HTML

Unterlagen:

None

Zuschlagskriterium:

The most economic tender

Vertrag:

Supplies

Prozedur:

Open procedure

Nuts:

None

Veröffentlichung:

06.09.2016

Erfüllungsort:

Lausanne - CH

Link:

Lose:

Name	Los Nr 1 Switzerland__Lausanne__Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gewinner	None
Datum
Wert	None
Anzahl Angebote	None

Équipement de Reactive Ion Etching Inductively Coupled Plasma (RIE-ICP).

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