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Electron Beam Lithography System

This call for tender is for the purchase of an electron beam lithography system for the nanofabrication of devices, chips, structures and patterns required for research purposes. The system must be able to expose electron-sensitive resists in specific CAD designed patterns. We require a turn-key solution including all required hardware, software and peripheral devices necessary for system operation. For a more detailled overview of our required specifications we refer you to the Performance Specifications document.
CPV-Code: 38511100
Abgabefrist: 01.09.2022
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Education
Vergabestelle:
name: Technische Universität München, TUM Zentrum für QuantumEngineering
address: None
postal_code:
city: Garching - DE
country: DE
email: None
phone: None
contact_point:
idate: 18. August 2022 07:39
udate: 18. August 2022 07:39
doc: 417230_2022.xml
authority_types:
activities:
Quelle: https://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:417230-2022:TEXT:EN:HTML
Unterlagen: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YK0RWXR/documents
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: None
Veröffentlichung: 01.08.2022
Erfüllungsort: Garching -
Link:
Lose:
Name Los Nr 1
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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