Ausschreibungen

Die EPFL (École Polytechnique Fédérale de Lausanne - Eidgenössische Technische Hochschule Lausanne) beabsichtigt den Erwerb eines hochauflösenden Maskenausrichtungs - und Belichtungssystems (mask aligner and exposure system) für das Center of MicroNanotechnology (CMi, Zentrum für MicroNanotechnologie) der Fakultät School of Engineering (STI, Ingenieurschule). Das Gerät wird in der Spitzenforschung zu aktuellen Themenkomplexen der Mikro - und Nanofabrikation zum Einsatz kommen. CMi ist eine zentrale, benutzerorientierte Einrichtung, die allen Fakultäten der EPFL, wie auch der örtlichen Industrie, die Möglichkeit gibt, in einem sehr gut ausgestatteten Reinraum zu arbeiten. Im CMi empfangen und schulen wir pro Jahr über 200 neue Benutzer, und haben zu jedem Zeitpunkt etwa 400 aktive Nutzer. Deswegen wird bei der Bewertung dieser öffentlichen Ausschreibung nicht nur der Prozessleistung des Gerätes grossen Wert zugemessen, sondern auch dessen Flexibilität, dessen Robustheit, dessen Anpassungsfähigkeit an unterschiedliche Substrate und Maskengrössen, der Benutzerfreundlichkeit, der einfachen Verwaltung, den schnellen Einarbeitungszeiten für neue Benutzer und schnellen Durchlaufzeiten. Im Hinblick auf die Bedürfnisse der EPFL und der spezifischen wissenschaftlichen Ziele seiner technologischen Plattform CMi wird die Prozessleistung im Bezug auf erreichbare Auflösung und Einheitlichkeit der kritischen Dimensionen beurteilt werden. Die allgemeinen Systemanforderungen sind wie folgt: Maskenausrichtungs - und Belichtungssystem mit hohem Bedienungs-konfort -Die Benutzerfreundlichkeit ist wichtig, aus der Sicht der Wechsel von einem Prozess zu einem anderen. Ein aktuelles, vergleichbares System, sieht an einem typischen Tag mehr als 10 verschiedene Benutzer mit unterschiedlichen Prozessen, jeweils in einem oder mehreren der 24 täglich verfügbaren halbstündigen Slots. -Einfach begreifbar für Anfänger, einfaches Berarbeiten und Aendern von Rezepten, Benützeroberfläche die schnelle Dateneingabe und Anpassung der Prozessrezepte erlaubt. Software die Benützer bei Ausführung von Prozess Rezepte leitet. -Kurze Einarbeitungszeiten für neue Benutzer und kurze Einarbeitungszeiten für fortgeschrittene Prozessabläufe wie rückseitiges Ausrichten. -Einfacher und schneller mechanischer Ablauf zum Laden von Maske und Substrat, Ausrichtung der beiden, Belichten und Entladen. Prozessleistung -Hohe erreichbare Auflösung, Einheitlichkeit der kritischen Dimensionen, hohe Ausrichtungsgenauigkeit, Einheitlichkeit der Ausleuchtung, schnelle Anpassung der Beleuchtung um Optical Proximity Correction (OPC) und Resolution Enhancement-Technologie (RET) auszuführen, automatisierte und motorisierte Schlüsselfunktionen, um stabile, wiederholbare Prozesse zu erreichen, um höchste Qualität für Resiststrukturierung von Standard-SEMI Wafern und kleinen Chips in einem MEMS Zusammenhang zu erreichen, mit hohen stündlichem Durchsatz -Automatisierte Keilfehlerausgleichssequenz. Front - (TSA) und Rückseitiges Ausrichten (BSA). Belichtungsarten Flut, Split-, Test-, Vakuum-Kontakt-, Hart-Kontakt, Weich-Kontakt, Proximität statisch und dynamisch (z-Sweep, xy-Sweep). Grosser Bewegungsbereich für Mikroskop und Substrat, mit Bezug auf die Maske. Lieferanten können allgemeine Informationen über die an dieser Forschung beteiligten Laboratorien über die Internet-Adressen http://cmi.epfl.ch/ abrufen.

Système d'exposition avec alignement de masques à haute résolution.

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