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Elektronenstrahl-Lithographieanlage

Im Rahmen der Beschaffung soll eine hochgradig automatisierbare und hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographieanlage (ebeam) ausgewählt werden. Mit dieser Anlage soll in elektronenstrahlempfindlichen Lacken auf Halbleitersubstraten (Wafer) und Quarzmasken mit sehr hoher Präzision und Genauigkeit Strukturen mit einem Auflösungsvermögen von bis zu wenigen Nanometern (nm) generiert werden.
CPV-Code: 34999300
Abgabefrist:
Typ: Contract award notice
Status: Not applicable
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
address: Hansastr. 27c
postal_code: 80686
city: München - DE
country: DE
email: None
phone: None
contact_point:
idate: 18. Juni 2020 01:04
udate: 18. Juni 2020 01:04
doc: 447856_2018.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:447856-2018:TEXT:DE:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Competitive procedure with negotiation
Nuts: None
Veröffentlichung: 13.10.2018
Erfüllungsort: München - DE
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 None
Gewinner Raith B. V.
Datum
Wert 0,01 €
Anzahl Angebote 1

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