Ausschreibungen

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus. Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen. Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden. Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein. Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein.

Plasmaätzanlage für Fluorchemie

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