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Oefen für hoher Dichte Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (ICP-CVD)

L’EPFL a l’intention d’acquérir un four à dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma de haute densité (ICP-CVD) pour ses salles blanches du CMI. L’équipement en question sera dédié à la pointe de la recherche dans le domaine des micro-résonateurs intégrés en nitrure de silicium pour peignes de fréquences optiques de solitons. Par rapport aux besoins de l’EPFL, et aux objectifs scientifiques de son laboratoire LPQM, l’accent est placé sur les domaines de recherches suivants: — déposition de couches minces de SiO2 et de Si3N4 de haute qualité, et faibles concentrations d’impuretés à travers un procédé ICP-CVD basé sur une chimie SiH4; — développement de procédés ICP-CVD pour la déposition de couches minces SiO2 et de Si3N4 sans hydrogène; — nettoyage in-situ des impuretés métalliques avec recuit thermique sous atmosphère de chlore (Cl2); — traitement des couches minces in-situ pour la densification et l’ajustement des contraintes.
CPV-Code: 38000000
Abgabefrist: 18.01.2021
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Other
Vergabestelle:
name: Ecole polytechnique fédérale de Lausanne, Vice-présidence pour la recherche VPR DAR ECO
address: BI A2 448 (Bâtiment BI) Station 7
postal_code: 1015
city: Lausanne - CH
country: CH
email: None
phone: None
contact_point: Jérôme Butty
idate: 1. Januar 2021 07:06
udate: 1. Januar 2021 07:06
doc: 603106_2020.xml
authority_types:
activities:
Quelle: http://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:603106-2020:TEXT:FR:HTML
Unterlagen: http://www.simap.ch/shabforms/servlet/Search?NOTICE_NR=1168309
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: None
Veröffentlichung: 14.12.2020
Erfüllungsort: Lausanne -
Link:
Lose:
Name Los Nr 1
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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