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Electron Beam Lithography System

This call for tender was for the purchase of an electron beam lithography system for the nanofabrication of devices, chips, structures and patterns required for research purposes. The system must be able to expose electron-sensitive resists in specific CAD designed patterns. We required a turn-key solution including all required hardware, software and peripheral devices necessary for system operation.
CPV-Code: 38511100
Abgabefrist:
Typ: Contract award notice
Status: Not applicable
Aufgabe: Education
Vergabestelle:
name: Technische Universität München
address: Arcisstr. 21
postal_code: 80333
city: München - DE
country: DE
email: None
phone: +49 8928914720
contact_point: Prof. Dr. Christan Pfleiderer
idate: 7. November 2022 09:09
udate: 7. November 2022 09:09
doc: 614249_2022.xml
authority_types:
activities:
Quelle: https://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:614249-2022:TEXT:EN:HTML
Unterlagen: None
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: None
Veröffentlichung: 07.11.2022
Erfüllungsort: München -
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 None
Gewinner SEMTech Solutions, Inc.
Datum
Wert 1 500 000,00 €
Anzahl Angebote 3

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