PECVD Plasma Deposition Tool

A new PECVD plasma deposition tool for use within the ICS cleanroom to deposit films of dielectric materials onto semiconductor samples, wafers and other substrates, ranging in size from 10 x 10 mm up to 200mm diameter wafers.
CPV-Code: 38000000
Abgabefrist: 07.02.2022
Typ: Contract notice
Status: Submission for all lots
Aufgabe: Education
Vergabestelle:
name: Cardiff University
address: Procurement Services, McKenzie House, 30-36 Newport Road
postal_code: CF24 0DE
city: Cardiff - UK
country: UK
email: None
phone: +44 2920879648
contact_point:
idate: 23. Dezember 2021 17:24
udate: 23. Dezember 2021 17:24
doc: 658416_2021.xml
authority_types:
activities:
Quelle: https://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:658416-2021:TEXT:EN:HTML
Unterlagen: https://in-tendhost.co.uk/cardiffuniversity/aspx/Home
Zuschlagskriterium: The most economic tender
Vertrag: Supplies
Prozedur: Open procedure
Nuts: None
Veröffentlichung: 22.12.2021
Erfüllungsort: Cardiff -
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 United Kingdom__Cardiff__Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None