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Equipement de dépôt LPCVD

Le CEA Grenoble pour ses activités de recherche visant à développer les technologies SOI d'un diamètre de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un système LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) compact basé sur un seul tube vertical. Ce système devra traiter automatiquement des plaquettes de 300 mm destiné au dépôt de silicium non dopé et dopé (avec du bore ou du phosphore). Il comprends les options à réponses facultatives suivantes : Option 1 : Process 8 Amorphous silicon doped with carbon @525°C (§2 du CdC) Option 2 : Echangeurs de chaleur / refroidisseurs (§3.2.6 du CdC) Option 3 : Transformateur (§4.1.4 du CdC) Option 4 : Formation Maintenance 1er niveau (§9 du CdC) Option 5 : Formation Maintenance Avancée (§9 du CdC) Option 6 : Extension de garantie 1 an supplémentaire (§11.1 du CdC)
CPV-Code: 31712100
Abgabefrist: 14.07.2025
Typ: ContractNotice
Status: None
Aufgabe: None
Vergabestelle:
name: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
address: 17 avenue des Martyrs Isère
postal_code: 38000
city: Grenoble - FR
country: FR
email: nadege.jolly@cea.fr
phone: 0662599602
contact_point: Nadège JOLLY 0662599602 nadege.jolly@cea.fr
idate: 16. Juni 2025 07:38
udate: 16. Juni 2025 07:38
doc:
authority_types:
activities:
Quelle: https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/00387253-2025
Unterlagen: https://www.marchespublics.gouv.fr
Zuschlagskriterium: price
Vertrag: None
Prozedur: None
Nuts: None
Veröffentlichung: 15.06.2025
Erfüllungsort: Grenoble - FR
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 None
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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