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veröffentlicht Frist Anbieter Summe

05.02.2015

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PURCH1112 Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (Pecvd) System For Silicon Dioxide 31710000

University of Glasgow Los 1 PURCH1112 Provision of a Plasma Etch System and Preventative Maintenance

Gewinner: Spts Technologies Ltd

Angebote: 4

Contract award

041517-2015

United Kingdom Glasgow Elektronische Ausstattung

05.02.2015

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PURCH1112 Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (Pecvd) System For Silicon Dioxide 31710000

University of Glasgow Los 3 PURCH1112 Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (Pecvd) System For Silicon Dioxide

Gewinner: Spts Technologies Ltd

Angebote: 4

Contract award

041517-2015

United Kingdom Glasgow Elektronische Ausstattung