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ICPCVD-Beschichtungsanlage

Ausgeschrieben wird eine Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-CVD). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die bei niedrigen Abscheidungsdrücken und -temperaturen (?20°C) mittels der Anlage abgeschiedenen Schichten sollen von hoher Qualität mit geringen Schäden und einer hohen nasschemischen Ätzbeständigkeit sein und eine hohe Konformität bzw. Stufenabdeckung aufweisen. Bei den abzuscheidenden Schichten soll es sich unter anderem um SiO2, Si3N4, SiOxNy, a-Si:H und SiC handeln.
CPV-Code: 38970000
Abgabefrist: 15.01.2025
Typ: ContractNotice
Status: None
Aufgabe: None
Vergabestelle:
name: Universität Paderborn
address: Warburger Str. 100 Paderborn
postal_code: 33098
city: Paderborn - DE
country: DE
email: beschaffung@zv.upb.de
phone: +49 5251-600
contact_point: Dezernat 1.4 - Beschaffung +49 5251-600 +49 5251-602536 beschaffung@zv.upb.de
idate: 17. Dezember 2024 09:13
udate: 17. Dezember 2024 09:13
doc:
authority_types:
activities:
Quelle: https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/00772359-2024
Unterlagen: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YYPYTYUAN6N8/documents
Zuschlagskriterium: None
Vertrag: None
Prozedur: vgv
Nuts: None
Veröffentlichung: 16.12.2024
Erfüllungsort: Paderborn - DE
Link:
Lose:
Name Los Nr 1 None
Gewinner None
Datum
Wert None
Anzahl Angebote None

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